一、技術參數(shù)

       典型應用行業：光學行業、微電子行業、精密鑄造行業。

       用于矽單晶片、砷化镓片、碳化矽、藍寶石晶片、半(bàn)導體化合物晶片、硬盤盤片、芯片、寶石、石英、硬質玻璃(lí)、光學鏡片等領域的研磨抛光。

（一）使用方法：

①工藝(yì)條件和物理指标：

       密度（g∕cm3）：1.38±0.02，PH=7.3±0.02，粘度（mPa.S）：＜10。

②操(cāo)作流程：

       待洗研磨抛(pāo)光工件→研磨機研磨抛光→清洗→進入下道工序。

③可原液(yè)使用，或用(yòng)純水稀釋2-3倍後使(shǐ)用。

（二）注意(yì)事項(xiàng)：

       ①在使用(yòng)本品時，不可混入其它藥液和酸性、堿性物質；

       ②若不慎濺入眼中，立即用(yòng)清水沖幹淨即可；

       ③使用本品的槽、箱在(zài)加入本品前必須清洗幹(gàn)淨（把玻璃粉等物質清除幹淨），如果槽、箱中有其它殘液,會影響本(běn)品性能；

       ④如果設備原(yuán)來用(yòng)的工作(zuò)液已産(chǎn)生細菌、發臭，建議添(tiān)加殺菌劑在研磨機内循環，以便管(guǎn)道系統内、磨盤等地方的細菌清洗幹淨；

（三）效果圖對比：

（四）溶液維護：

       經驗(yàn)補加法：應定期(qī)補加或更換新液（建議每3-5天(tiān)更換新液一次，具體視實際情況(kuàng)而定）。

（五）故障排除：

二(èr)、産(chǎn)品特點

       1、本品是由高分子潤滑劑、極壓抗磨劑、防鏽劑、抗氧劑、螯合劑、消泡劑(jì)、殺菌防腐劑合成(chéng)的研磨抛光(guāng)液。适(shì)用于藍寶石襯(chèn)底與其他硬質材料(liào)的粗抛與精抛的平整化加工，加工速率(lǜ)高，表面平整度、粗糙(cāo)度達到國際先進水平(píng)，具有(yǒu)加工效率高、使用(yòng)壽命長的特點(diǎn)，且光潔度高，懸浮性強，易清洗，完全可以(yǐ)替代同類進口産品。通常隻需配(pèi)合研磨抛光設備(bèi)使用，本品不含苯酚、氯化石蠟、亞硝(xiāo)酸鹽、磷和重金屬(shǔ)等受控物(wù)質。

       2、型号：2002藍寶石研磨液

       3、保存與運輸：25㎏∕桶(tǒng)塑料桶包裝。儲存于陰涼幹燥處。按非危險品儲運。保質(zhì)期壹年。

       4、本品特點：

• 去除速率高，抛光效果好，抛光表面粗糙度好，光潔度佳無劃傷；

• 本品有良好(hǎo)的冷卻性與防鏽性、潤滑性、耐高溫（高達1600-1800度）；

• 具有良好的防腐性與防鏽性，對提高工件表面光潔度和延長研磨設備的使用(yòng)壽命具有顯著效(xiào)果，本品配有螯合(hé)劑，故(gù)在研磨抛光過程中能有效加速循環液中碎(suì)屑等雜(zá)質快速(sù)沉澱，從而(ér)提高本品的耐用性；

• 本品無刺激性氣味、無(wú)毒，對環境無污染；

• 分散性、滲透性能極好，耐磨性好，與傳(chuán)統抛光粉相(xiàng)比，本品操作簡便、抛(pāo)光表面易清(qīng)洗、在(zài)抛光設備以及抛光墊上無沉積。

• 貯存時應避免曝曬，貯(zhù)存(cún)溫度爲0-40℃，避免(miǎn)敞口長(zhǎng)期與空氣(qì)接觸。