一、技(jì)術參數

       典型應(yīng)用行業：光學(xué)行業、微電子行業、精密鑄造行業。

       用于矽單晶片、砷化镓片、碳化矽、藍寶石晶片、半導體化合(hé)物晶片、硬盤盤片、芯(xīn)片、寶石、石英、硬質玻(bō)璃、光學鏡片等領域的研磨抛光。

（一）使用方法：

①工藝條件和(hé)物理指标：

       密度（g∕cm3）：1.38±0.02，PH=7.3±0.02，粘度（mPa.S）：＜10。

②操(cāo)作流程：

       待洗研磨抛(pāo)光工件→研磨機研磨抛光→清洗→進入下道工序。

③可原液使用，或用純水稀釋2-3倍後使用。

（二）注意(yì)事項：

       ①在使用(yòng)本品時(shí)，不可混入其它藥液(yè)和酸性、堿性物質；

       ②若不慎濺入眼中，立即用清水沖(chòng)幹淨即可；

       ③使用本品的槽、箱在加入本品前必須清洗幹淨（把玻璃粉等物質清除(chú)幹淨），如果(guǒ)槽、箱中有其它殘液,會影(yǐng)響本品性能；

       ④如果(guǒ)設備原來用(yòng)的工作液已産生細菌、發臭，建議添加殺菌劑在研磨機内循環，以便管(guǎn)道系統内、磨盤等地方的細菌清洗幹淨；

（三）效(xiào)果圖(tú)對比：

（四）溶(róng)液維護：

       經驗補(bǔ)加法：應定期補加或(huò)更換新液(yè)（建議每3-5天更換新液一次，具體(tǐ)視實際情況而定）。

（五）故障(zhàng)排除：

二、産品特點

       1、本品是由高分子潤滑劑、極壓抗磨劑、防鏽劑、抗氧(yǎng)劑、螯合劑、消泡劑(jì)、殺菌防腐劑合(hé)成的研磨抛光液。适用于(yú)藍(lán)寶石襯(chèn)底與其他硬質材料的粗抛與精抛的平整化加(jiā)工，加工速率高，表(biǎo)面平整度(dù)、粗糙度達到國際先進水平，具有加工效(xiào)率高、使用(yòng)壽命長的特點，且光潔度高，懸浮性強，易清洗，完全可以(yǐ)替代同類(lèi)進口産品。通(tōng)常隻需配合研磨(mó)抛光設備使用，本品不含苯酚、氯化石蠟、亞硝酸鹽(yán)、磷和重金屬等受控(kòng)物(wù)質。

       2、型号：2002藍寶石研(yán)磨液

       3、保存與運輸：25㎏∕桶(tǒng)塑(sù)料桶包裝。儲存于(yú)陰涼幹燥處(chù)。按(àn)非危(wēi)險品儲運。保質(zhì)期壹年。

       4、本品特點：

• 去除速(sù)率高，抛光(guāng)效果好，抛光表面粗(cū)糙(cāo)度好，光潔度佳無劃傷；

• 本品(pǐn)有良好的冷卻性與防(fáng)鏽性、潤滑性、耐高(gāo)溫（高達1600-1800度）；

• 具有良(liáng)好的防腐性與防鏽性，對提高工件表面光潔(jié)度和延長研磨設備的使用壽命具有(yǒu)顯著效果，本品配有螯合劑，故(gù)在研磨抛光過程中(zhōng)能(néng)有效加速循(xún)環液中碎屑等雜質快速沉澱，從而提高本品的耐用性；

• 本品無刺激性氣味(wèi)、無毒，對環境無污染；

• 分散性、滲(shèn)透性能極好，耐磨性(xìng)好，與傳統抛光粉相(xiàng)比，本品操作簡便、抛(pāo)光表面易(yì)清洗、在抛光設(shè)備以及抛光(guāng)墊上無(wú)沉(chén)積(jī)。

• 貯存時應(yīng)避免曝曬，貯存溫度爲0-40℃，避免敞口長期與空氣接觸。