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2001金(jīn)屬研磨抛光劑
本品是由表面活性劑、高分子潤滑劑、極壓抗磨劑、防(fáng)鏽(xiù)劑、抗氧劑、螯合劑、消泡劑、殺菌防腐(fǔ)劑合成的研磨抛光液。在研磨抛光過程中,保持高切削效率的同時不易對工件産生劃傷,适用大多數金屬材料鏡面抛光,通常隻需配(pèi)合研(yán)磨抛光設備使用(yòng),在必要情況下,可根據不同抛光要求(qiú)選用适當的磨料(如磨石、鋼珠等)一并使用。本品不含苯酚、氯(lǜ)化石(shí)蠟、亞硝酸鹽、磷和重金屬等受控物質(zhì)。

一、技術參數


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       典型應(yīng)用行業:廣泛應用于不鏽鋼(gāng)制造(zào)業、五(wǔ)金行業、微電子行業(yè)。


       使用于不鏽鋼、鐵、鋁合金、鋅合金、銅等各種硬質金屬材(cái)料的(de)研磨抛光要求。


(一)使用方法:


①工藝條件和(hé)物理指(zhǐ)标:

       


②配比:


       根據不同工(gōng)藝(yì)要求,将本品按10-20%比例與去離(lí)子水(shuǐ)混合使用即(jí)可。


③操(cāo)作流程:


       待洗研磨抛光工件→研磨機研磨抛光→清洗(xǐ)→進入下道工序。


(二)注(zhù)意事項:


       ①在使用本品時,不可混入其它藥液和(hé)酸性、堿性物質;

       ②若不慎濺入眼中,立即用清水沖幹淨即(jí)可;

       ③使用本品的槽、箱在加入本品前必須清洗幹淨(jìng),如果槽、箱中有其它殘液,會影響本品性能;

       ④本品使用前建議(yì)搖勻後再使用,以免因不均勻(yún)影響效果(guǒ);


(三)溶液維護(hù):


       經驗補加(jiā)法:應定(dìng)期補加或更換新液(建議每3-5天更換新液一次,具體視實際情況而定)。


二、産品特點


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       1、本品(pǐn)是由表面活性劑、高分子潤滑劑、極壓抗磨劑、防鏽劑、抗氧劑、螯合劑、消(xiāo)泡劑、殺菌防腐劑合成的研磨抛光液。在研磨(mó)抛光過程中,保持高(gāo)切削效率的同時不易對工件産生劃傷,适用(yòng)大(dà)多(duō)數金屬(shǔ)材料鏡面抛光,通常隻需配合研磨抛光設(shè)備使用,在必要情況下,可根據(jù)不同抛光(guāng)要求選(xuǎn)用适當的磨料(如磨石、鋼珠等)一并使用。本品不含苯酚、氯化石蠟、亞硝酸鹽、磷和重(zhòng)金屬等受控物質。

       2、型号:2001金屬(shǔ)研磨抛光液(yè),分三種型号:2001-1(粗磨),2001-2(中磨),2001-3(精(jīng)磨)

       3、保存與運輸:25㎏∕桶塑料(liào)桶包裝。儲存(cún)于陰(yīn)涼幹燥處。按非危險品儲運。保質期壹年。

       4、本品特點:

  • 本品有良好的冷卻性與防鏽(xiù)性、潤滑性、耐高溫(高達1600-1800度(dù));

  • 具有(yǒu)良好的防腐性與(yǔ)防鏽性,對提高工件表面光潔(jié)度和延長研磨設備的使用壽命具有顯著效果(guǒ);

  • 本品配有螯合劑,故(gù)在研(yán)磨抛光過程中能有效加速循環液中碎屑等(děng)雜質快速(sù)沉澱,從而提高本品的耐用性;

  • 本品無刺激性氣味(wèi)、無毒,對環境無(wú)污染;

  • 本品抛光(guāng)速率快,抛(pāo)光後産品(pǐn)光潔度佳 

  • 分散性滲透性能極好,耐磨性好(hǎo),與傳統抛光粉相(xiàng)比,本品操(cāo)作簡便、抛光(guāng)表面易清洗、在抛光設備以及抛光墊(niàn)上無沉積




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