一、技術(shù)參數(shù)

       典型應用(yòng)行業：光學(xué)行業、微電(diàn)子行(háng)業、精(jīng)密鑄(zhù)造行(háng)業。

       用(yòng)于矽(xī)單晶片、砷(shēn)化镓片、碳化矽、藍寶石晶(jīng)片、半導體化合物晶片、硬盤(pán)盤片、芯(xīn)片、寶石(shí)、石(shí)英、硬(yìng)質玻璃、光(guāng)學鏡(jìng)片等領(lǐng)域的(de)研(yán)磨抛(pāo)光(guāng)。

（一(yī)）使用方(fāng)法(fǎ)：

①工藝(yì)條件和物(wù)理指(zhǐ)标：

       密(mì)度（g∕cm3）：1.38±0.02，ph=7.3±0.02，粘(zhān)度(dù)（mpa.s）：＜10。

②操(cāo)作流程：

       待(dài)洗研磨抛(pāo)光工(gōng)件→研磨機研磨抛光(guāng)→清洗(xǐ)→進入下道(dào)工序。

③可原(yuán)液使用，或(huò)用純水稀釋2-3倍後使(shǐ)用。

（二）注意(yì)事項(xiàng)：

       ①在使(shǐ)用本品(pǐn)時，不可(kě)混(hùn)入(rù)其它藥液(yè)和酸性、堿性物質；

       ②若不慎濺入眼中，立即(jí)用清(qīng)水沖(chòng)幹淨即可(kě)；

       ③使用(yòng)本品(pǐn)的槽、箱在(zài)加入本品前必須清洗幹淨（把玻璃粉等(děng)物質清除(chú)幹淨(jìng)），如果槽、箱中有(yǒu)其它殘液(yè),會影響本(běn)品性能；

       ④如(rú)果設(shè)備原(yuán)來用(yòng)的工(gōng)作液已(yǐ)産(chǎn)生細菌、發(fā)臭，建議添加殺菌劑在研磨機(jī)内循(xún)環(huán)，以便管道系(xì)統内、磨盤(pán)等地方的細(xì)菌清洗幹淨；

（三）效(xiào)果圖(tú)對比：

（四）溶(róng)液維(wéi)護：

       經驗補(bǔ)加法：應定期補(bǔ)加或(huò)更換新液(yè)（建議每3-5天更換(huàn)新液一(yī)次，具體(tǐ)視實(shí)際情況而定）。

（五(wǔ)）故障排(pái)除(chú)：

二、産(chǎn)品特(tè)點(diǎn)

       1、本品是(shì)由高分子潤(rùn)滑劑、極(jí)壓抗(kàng)磨劑(jì)、防鏽(xiù)劑、抗氧劑、螯合(hé)劑、消泡劑、殺菌(jun1)防腐劑合成的(de)研磨抛(pāo)光液。适(shì)用于(yú)藍(lán)寶石襯(chèn)底與其他硬質(zhì)材料的粗抛與(yǔ)精抛的平整化(huà)加工，加工(gōng)速率高，表面平(píng)整度、粗糙(cāo)度達到國(guó)際先進水(shuǐ)平，具有加工效率高、使用壽(shòu)命長的(de)特點(diǎn)，且光潔度(dù)高，懸浮性強，易(yì)清洗(xǐ)，完全可(kě)以替代同類(lèi)進口産品(pǐn)。通(tōng)常隻需(xū)配合研磨抛光(guāng)設備使用，本品(pǐn)不含(hán)苯酚、氯化石蠟、亞硝(xiāo)酸鹽(yán)、磷和重(zhòng)金(jīn)屬等(děng)受控(kòng)物(wù)質。

       2、型号(hào)：2002藍寶(bǎo)石研磨液

       3、保存(cún)與運輸：25㎏∕桶塑料桶包(bāo)裝。儲(chǔ)存于陰涼幹燥(zào)處。按非危(wēi)險品儲運。保質期壹(yī)年(nián)。

       4、本(běn)品特點：

• 去除速(sù)率高，抛光(guāng)效果(guǒ)好，抛光表面粗(cū)糙度好，光(guāng)潔度佳無劃(huà)傷；

• 本品有良好(hǎo)的冷卻性與(yǔ)防鏽(xiù)性、潤滑性(xìng)、耐高溫（高(gāo)達1600-1800度(dù)）；

• 具(jù)有良好(hǎo)的防(fáng)腐性與防鏽(xiù)性(xìng)，對提(tí)高工件表(biǎo)面光(guāng)潔度和延(yán)長研磨設備的使(shǐ)用壽命具有(yǒu)顯著效果，本(běn)品配有螯合劑，故(gù)在研磨(mó)抛光過(guò)程中(zhōng)能(néng)有效加(jiā)速循環液中碎(suì)屑等雜質快(kuài)速(sù)沉澱(diàn)，從而提高本品的耐(nài)用性(xìng)；

• 本品(pǐn)無刺激(jī)性氣味(wèi)、無毒，對環境無(wú)污染(rǎn)；

• 分散性、滲(shèn)透(tòu)性能(néng)極好，耐磨性(xìng)好，與傳統(tǒng)抛(pāo)光粉相(xiàng)比，本(běn)品操作簡便、抛光表面易清洗、在抛光設備以(yǐ)及(jí)抛光墊上無(wú)沉積。

• 貯(zhù)存時應(yīng)避免曝曬，貯存(cún)溫度爲(wèi)0-40℃，避(bì)免敞口長期與空氣接觸。